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Notice complète

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Proceedings of the 1983 International Symposium on Electron, Ion, and Photon Beams : [27th], 31 May-3 June 1983,... Los Angeles, California
Contributeur :
Chang, T.H.P (Éditeur scientifique)  
Hatzakis, M (Éditeur scientifique)  
International Symposium on Electron, Ion, and Photon Beams. 27. Los Angeles, Calif. 1983  
Éditeur :
American Institute of Physics  
Lieu de publication :
New York  
Date de publication :
1983  
Titre de revue :
Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics processing and phenomena  
Numéro de revue :
1983, vol.1, no4 p. 959-1400  
ISBN :
0-88318-431-1  
Langue :
anglais  
Sujet :
Lithographie par faisceau d'électrons - Actes de congrès  
Lithographie par rayons X - Actes de congrès  
Lithographie par faisceau d'ions - Actes de congrès  
Type de document :
Livre  

Université de Bordeaux

Bibliothèque Localisation Statut Condition Vol. Cote
ST-BU SC. ET TECHNIQUES Périodique Master Magasins Disponible Prêtable CP 150.B-1-4
Collation :
P. 959-1400 ; 29 cm  
Provenance :
Abes (PPN004882288)  
Notes :
Représente le 27ème Symposium. Bibliogr. : en fin d'article. Index  
Origine :
BaBord  
Identifiant d'origine :
541  

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